超纯水设备核心技术解析
时间：2024-10-30
在全球数字化加速转型和信息科技竞争加剧的背景下，芯片需求旺盛，导致相关产业链产能提升。特别是超纯水设备在芯片生产中的重要性，因为芯片制造过程中几乎每道工序都需要超纯水清洗。当前芯片产业使用的超纯水设备的核心技术，包括反渗透工艺、EDI?？楹团坠饣齑补ひ?，这些技术共同确保了超纯水的高品质，满足了芯片行业的严格用水需求。
超纯水设备核心技术解析：
反渗透工艺： 反渗透是一种借助于选择性膜的功能以压力为推动力的膜分离技术，它能够有效去除水中溶解盐类、有机物等，降低离子含量,确保出水水质的安全与纯净。
EDI?？椋?通过电渗析的方式连续产生超纯水，进一步提升了超纯水设备的性能。该过程无需酸碱再生，自动化程度高，出水电阻率≥17MΩ·CM。
抛光混床工艺： 这是一种专门用于高纯度水处理系统的终端精制技术，能够将水中的离子含量降低至很低的水平，出水电阻率可达18MΩ·CM以上。
综上所述，超纯水设备通过反渗透、EDI?？橐约芭坠饣齑驳纫幌盗邢冉乃砉ひ眨唤瞿芄挥行コ械母髦衷又屎陀泻ξ镏剩鼓苋繁３鏊蚀锏缴踔脸幸蹈弑曜迹髁煊虻木苡τ锰峁┝丝煽康乃时Ｕ?。
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编辑：虞美人 技术：加菲
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