半导体的生产需要经过8个主要工序。超纯水主要用于半导体制造中某些工序前后的清洗。例如，在蚀刻工艺之后，切割晶圆并用超纯水清洗残余碎片。或者，在离子注入过程之后，清洁残余离子。此外，超纯水还可用于晶圆抛光或晶圆切割。

　　超纯水是一种用于半导体制造过程中的洗涤剂。那么，在半导体生产中使用超纯水会有什么影响呢?在用纳米超精细工艺处理半导体时，如果在各种工艺前后留下一个小颗粒，则会导致误差。因此，在各种工艺前后用超纯水清洗晶圆可以确保清洁度并提高半导体生产率(输出)。

　　随着半导体工业的不断发展，对清洁水的电导率、离子含量、TOC、do和颗粒物的要求越来越严格。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高，因此半导体行业的超纯水与其他行业的用水要求不同。半导体行业对超纯水有极其严格的水质要求。目前，我国常用的超纯水标准有国家标准《电子级水》(GB/T 11446.1-2013)和美标。

　　在半导体生产过程中，硼是一种p型杂质。过量会使n型硅反转，从而影响电子和空穴的浓度。因此，在超纯水工业中应充分考虑硼的去除。硼离美标中e1.3中要求小于0.05。如果硼离子含量能够达到较低的指标，则必然会提高半导体的性能。

　　Huncotte系统选用核级树脂，可通过独特的靶向离子交换树脂有效控制系统出水的硼离子含量。采用IPC-MS检测硼离子含量，并对硼离子流出物进行分析≤ 0.005μG/L远低于美标E1.3中要求的硼离子含量。

　　今日，莱特莱德集装箱海水淡化设备已出厂验收。莱特莱德集装箱海水淡化设备解决了空间限制，安装方便、体积小、操作简单。

　　目前，在水资源紧缺的情况下，加强海水淡化的国产化技术研发，在水资源再利用方面，推广海水淡化设备显得尤为重要，并且现代海水淡化设备也渐渐步入了现代这个快速发展的时代，其有效性和可靠性也越来越被人们所认可。

　　集装箱式海水淡化设备的优势如何?

　　1、集装箱式海水淡化设备采用反渗透分离技术进行海水淡化脱盐，工艺流程和操作参数通过计算机进行优化设计。

　　2、海水淡化脱盐工艺无需海水加温，运行于常温下，无相变现象，因此能耗低，制水成本低。

　　3、设计时充分考虑船舶的特殊性，体积小，重量轻，占用省、安装方便、适应性强，可在狭小的舱室内安装?；芄苈贰⒐芗捎?16不锈钢及耐蚀材料制作。

　　4、集装箱式海水淡化设备操作简单，维修方便，只要有电、有海水，启动后就能立即提供淡水。

　　莱特莱德集装箱式海水淡化设备采用超滤膜装置对海水进行预处理，然后把含有盐类的海水通过反渗透装置加压，除去海水中所含盐、菌等有机物质，并进行杀菌处理。同时也能缓解偏远地区居民对饮用水的需求。